微电极拉制仪（Microforge）拉制出的电极，电极的尖端往往不是很光滑。为了能与细胞膜间形成稳定可靠的封接，一般拉制出的微电极需要对其尖端进行抛光处理，尤其是进行单通道记录时的微电极更需要进行抛光，此时需要使用抛光仪。单通道记录中还需要在微电极尖端涂上疏水性硅酮树脂（Sylgard）以减小跨壁电容（Transmural capacitance）带来的噪声，此时要注意先涂Sylgard后抛光。
《应用范围》 微电极拉制仪拉出的电极，在电极的尖端，往往不是很光滑。因此拉制出的微电极必须进行细致的抛光处理，以保证高阻封接的质量，同时还可使封接保持长时间的稳定。在一些实验中还需要在微电极尖端涂上（Coating）疏水硅胶树脂（Sylgard）以减小跨壁电容（Transmural capacitance）带来的噪声。
《主要特点》 1. 目镜：15X，物镜变焦倍数： 5X 和 35X
2. 放大倍数：75 --- 525倍
3. 加热操作器移动距离: X 轴14mm, Y轴14mm, Z轴14mm
4. 电极操作器移动距离：Y轴12mm, Z轴28mm
5. 最大工作距离：0 – 30mm
6. 操作方便，设计合理